新世代のプラズマ制御ツール

2023年5月5日

新世代マイクロチップの高度な構造を製造するために必要なプラズマプロセスは、ますます難易度を増している。

なぜ新世代のプラズマ制御ツールが必要なのか?

半導体製造工場は、最先端技術の製造拠点です。過去10年間、半導体チップ製造は、高アスペクト比の3D形状、ますます複雑化する積層構造、複雑な材料の組み合わせなど、重要な分野における要求の高まりに直面してきました。 

最先端マイクロチップの高度な構造を製造するために必要なプラズマプロセスは、ますます難易度が高まり、超高速かつリアルタイムのプラズマ制御が求められています。重要なプロセスパラメータを制御できることで、信頼性、再現性、そして最終的には歩留まりが向上します。チップ製造は技術ノードごとに複雑化していくため、最先端マイクロチップの製造に関わる各サブシステムを、これらの新しい機能に合わせて最適化することが不可欠です。

Synertiaグループ写真

RFジェネレータとRFマッチングネットワークプラズマを着火する そして、全体に均一性を生み出すための重要な構成要素です。ウェハー プラズマプロセスを利用する。プラズマの制御は、最先端のチップ製造を担う次世代の高性能ツールを実現する上で極めて重要なステップである。今日の高度な3D構造を構築するには、マイクロ秒単位でプラズマの挙動を制御し、プラズマ環境のあらゆる側面を最適化することで、アプリケーションエンジニアがプロセス設計に完全に集中できるようにするための、構成可能な高速RF電源システムが必要となる。

としてComet Plasma Control Technologies 私たちは最先端プロセスの要件を理解しており、革新的なプロセス技術を提供しています。プラズマチャンバー それはウェハー 将来のワークロードに対応できる処理ツール。半導体業界の新たな要求に応えるため、当社はSynertiaを導入しました。 CometのRF電力供給プラットフォームSynertia® RF パワー システムは、 RF マッチング ネットワークとRFジェネレータの相互作用を新たなレベルに引き上げます。デジタル制御技術、直感的な視覚化、構造化されたデータ整理により、プロセス内で実行可能な洞察が得られます。プラズマチャンバー まったく新しいレベルの制御を提供します。 Synertia® RF電力供給プラットフォームより多くの機能と柔軟性でエッチングおよび成膜プロセスのパフォーマンスを強化し、それによって次世代のより高性能なプロセスを可能にします。ウェハー 処理ツール。

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