新世代のプラズマ制御ツール

2023年5月5日

新世代マイクロチップの高度な構造を製造するために必要なプラズマプロセスは、ますます困難になっています。

なぜ新世代のプラズマ制御ツールが必要なのか

半導体工場には、最先端のテクノロジー製造が集約されています。ここ10年間、半導体チップの製造は、高アスペクト比の3Dジオメトリ、増加し続ける層のスタック、複雑な材料の組み合わせなど、重要な分野で高まる要求に直面してきました。 

最先端のマイクロチップの高度な構造を製造するために必要なプラズマプロセスはますます困難になっており、超高速かつリアルタイムなプラズマ制御が求められます。重要なプロセスパラメータを制御できることは、信頼性、再現性、そして最終的には歩留まりの向上につながります。テクノロジーノードが進むにつれてチップの生産が複雑化する中、最先端のマイクロチップの生産に関与する各サブシステムが、これらの新しい機能に向けて最適化されることが不可欠です。

Synertia-Group-Picture

RFジェネレータおよびRFマッチングネットワークはプラズマを着火し、プラズマプロセスを使用してウェハー全体の均一性を生み出す重要なコンポーネントです。プラズマの制御は、最先端チップの製造を担う次世代の高性能ツールを実現するための重要なステップです。今日の高度な3D構造を構築するには、マイクロ秒単位でプラズマ挙動を制御し、プラズマ環境のあらゆる側面を最適化して、アプリケーションエンジニアがプロセス設計に完全に集中できるようにするための、設定可能な高速RF電力システムが必要です。

Comet Plasma Control Technologiesは、最先端プロセスの要件を熟知しており、プラズマチャンバーにおける革新的なプロセス技術を提供することで、ウェハー処理ツールを将来のワークロードに対応させます。半導体業界の新たな要求に応えるため、当社はCometのRF電力プラットフォームであるSynertia®を導入しました。Synertia® RFパワーシステムは、RFマッチングネットワークとRFジェネレータの連携を新たなレベルへと引き上げます。デジタル制御技術、直感的なビジュアライゼーション、および十分に構造化されたデータ管理により、プラズマチャンバー内で進行しているプロセスに関する実用的なインサイトが得られ、全く新しいレベルの制御が可能になります。Synertia® RF電力プラットフォームは、機能性と柔軟性を高めることでエッチングおよび成膜プロセスのパフォーマンスを向上させ、それにより次世代の高性能なウェハー処理ツールを実現します。

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