超高速かつ強力なプラズマ状態のコマンド＆コントロール。

半導体メーカーがデバイスの微細化をナノメートルからオングストロームスケールへと進め、デバイスの性能と集積度を高めるために新たな3Dアーキテクチャを導入する中、重要なプラズマプロセスには、より高度で高精度なRF電力供給の制御が求められています。

Synertia®は、複雑なパルスプロファイルと複数のパルス状態に対して比類のないインピーダンスマッチングを提供し、プラズマ状態のカスタマイズを可能にすることで、クラス最高レベルの精度と再現性を実現しながら、最良のウェハー上の結果をもたらします。

Synertia®の特長

1 + 1 = 3

Synertia® RF電力供給プラットフォームは、連続波、パルス波、マルチレベルパルス波形内の各プロセス遷移において正確な最適化を可能にし、プラズマ状態をカスタマイズして最良の
ウェハー上の結果をもたらします。また、次世代ノード以降の量産のニーズを満たす、クラス最高の精度と再現性を提供します。

Synertia®プラットフォームはさらに、超高速通信と連携によるRFジェネレータとRFマッチングネットワーク間のさらなるシナジー、実用的なインサイトを得るための強力なデータキャプチャおよびオンボード解析機能を実現し、これまで不可能だったより複雑なプラズマアプリケーションを可能にします。それは新たなレベルのディープコントロールです。

Synertia®プラットフォームは、幅広い周波数と電力レベルに対応するRFジェネレータおよびRFマッチングネットワークで構成されています。