プラズマ状態を最高速度で強力に制御・制御する。

半導体メーカーがデバイスの機能をナノメートルスケールからオングストロームスケールに拡張し、新しい3Dアーキテクチャを実現することでデバイスの性能と密度を向上させるにつれて、重要なプラズマプロセスでは、RF電力供給のより高度で正確な制御が求められるようになっている。

Synertia® 複雑なパルスプロファイルと複数のパルス状態に対して比類のないインピーダンス整合を提供し、プラズマ条件をカスタマイズして最高のウェハー結果を達成すると同時に、クラス最高の精度と再現性を提供します。

Synertia® と説明されている

1 + 1 = 3

のSynertia® RF電力供給プラットフォーム 連続波、パルス波、マルチレベルパルス波の各プロセス遷移において精密な最適化が可能となり、最適なプラズマ条件をカスタマイズできます。
オンウェハー結果、クラス最高の精度と再現性を提供し、ニーズを満たします。量産 次のノード以降に向けて。

のSynertia® このプラットフォームは、超高速通信と連携、強力なデータ取得機能、実用的な洞察を得るためのオンボード分析機能により、RFジェネレータとRFマッチングネットワーク間の相乗効果をさらに高め、これまで不可能だったより複雑なプラズマアプリケーションを実現します。これは、新たなレベルの高度な制御を意味します。

のSynertia® このプラットフォームは、幅広い周波数と電力レベルに対応したRF発生器とRF整合回路で構成されています。