新一代等离子体控制设备

2023年5月5日

制造新一代微芯片先进结构所需的等离子体工艺难度持续增加。

为什么需要新一代等离子体控制工具?

半导体工厂是尖端技术制造的基地。在过去的十年里,半导体芯片制造在关键领域面临着日益增长的需求,包括高长宽比的3D几何结构、不断增加的层堆叠以及复杂的材料组合。 

制造尖端微芯片的先进结构所需的等离子体工艺难度持续增加,需要超高速、实时的等离子体控制。能够控制关键工艺参数,可提高可靠性、可重复性,并最终提升良率。随着每个技术节点的推进,芯片生产日益复杂,因此,针对最先进微芯片生产涉及的每个子系统,对其进行优化以适应这些新功能至关重要。

Synertia合影

射频电源 以及射频匹配网络 点燃等离子体 ,这些是利用等离子体工艺在晶圆 上实现均匀性的关键组件。控制等离子体是实现下一代高性能设备的关键步骤,这些设备将用于尖端芯片制造。为了构建当今先进的3D结构,必须采用可配置的高速射频电源系统,以在微秒级控制等离子体行为,并优化等离子体环境的所有方面,从而确保应用工程师能够完全专注于工艺设计。

作为Comet Plasma Control Technologies 我们了解前沿工艺的要求,并提供颠覆性的工艺技术。等离子体腔室 这使得晶圆 为应对未来工作负载而准备的加工工具。为了满足半导体行业的新需求,我们推出了Synertia 。 Comet的射频功率传输平台Synertia® 射频功率系统将射频匹配网络和射频电源的交互提升到了一个新的水平。数字控制技术、直观的可视化和结构化的数据组织,使得对正在进行的过程能够获得可操作的洞察。等离子体腔室 并提供全新的控制水平。 Synertia®射频功率传输平台通过更多功能和灵活性增强刻蚀和沉积工艺性能,从而实现下一代更高性能的晶圆 加工工具。

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