Warum ist eine neue Generation von Plasmasteuerungsanlagen erforderlich?

HF-Generatoren und HF-Anpassungsnetzwerke zünden das Plasma und sind Schlüsselkomponenten, um mithilfe von Plasmaprozessen eine hohe Gleichmäßigkeit über den Wafer hinweg zu erzeugen. Die Plasmasteuerung ist ein entscheidender Schritt, um die nächste Generation leistungsfähigerer Anlagen für die High-End-Chipfertigung zu ermöglichen. Um die heutigen fortschrittlichen 3D-Strukturen zu bauen, ist ein konfigurierbares, hochentwickeltes HF-Leistungssystem erforderlich, das das Plasmaverhalten im Mikrosekundenbereich steuert und alle Aspekte der Plasmagestaltung optimiert, damit sich Anwendungsingenieure voll und ganz auf das Prozessdesign konzentrieren können.

Als Comet Plasma Control Technologies Wir kennen die Anforderungen modernster Prozesse und bieten bahnbrechende Prozesstechnologie in der Plasmakammer, die Wafer-Bearbeitungsanlagen für die zukünftigen Arbeitslasten fit macht. Um den neuen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht zu werden. Industrie Wir haben Synertia ® eingeführt. Comet Die Synertia® RF-Leistungsplattform von Synertia® hebt die Interaktion von HF-Anpassungsnetzwerk und HF-Generator auf ein neues Niveau. Digitale Steuerungstechnik, intuitive Visualisierung und eine übersichtliche Datenorganisation ermöglichen wertvolle Einblicke in die Prozesse der Plasmakammer und bieten ein völlig neues Maß an Kontrolle. Die Synertia® RF-Leistungsplattform optimiert die Leistung von Ätz- und Abscheidungsprozessen durch mehr Funktionalität und Flexibilität und ermöglicht so die nächste Generation leistungsfähigerer Waferbearbeitungsanlagen.