Warum ist eine neue Generation von Plasmasteuerungsanlagen erforderlich?

HF-Generatoren und HF-Anpassungsnetzwerke zünden das Plasma und sind Schlüsselkomponenten, um mithilfe von Plasmaprozessen eine hohe Gleichmäßigkeit über den Wafer hinweg zu erzeugen. Die Plasmasteuerung ist ein entscheidender Schritt, um die nächste Generation leistungsfähigerer Anlagen für die High-End-Chipfertigung zu ermöglichen. Um die heutigen fortschrittlichen 3D-Strukturen zu bauen, ist ein konfigurierbares, hochentwickeltes HF-Leistungssystem erforderlich, das das Plasmaverhalten im Mikrosekundenbereich steuert und alle Aspekte der Plasmagestaltung optimiert, damit sich Anwendungsingenieure voll und ganz auf das Prozessdesign konzentrieren können.

Als Comet Plasma Control Technologies kennen wir die Anforderungen modernster Prozesse und bieten disruptive Prozesstechnologie in der Plasmakammer, die Waferbearbeitungsanlagen für die Workloads der Zukunft rüstet. Um den neuen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht zu werden, haben wir Synertia® eingeführt, die RF Power Delivery Platform von Comet. Das Synertia® RF Power System hebt das Zusammenspiel von Impedanzanpassungsnetzwerk und HF-Generator auf ein neues Niveau. Digitale Steuerungstechnologie, intuitive Visualisierung und eine gut strukturierte Datenorganisation ermöglichen fundierte Einblicke in die Vorgänge in der Plasmakammer und sorgen für ein völlig neues Kontrollniveau. Die Synertia® RF Power Delivery Platform optimiert die Leistung von Ätz- und Abscheidungsprozessen durch mehr Funktionalität und Flexibilität und ermöglicht so die nächste Generation leistungsstärkerer Waferbearbeitungsanlagen.