Leistungsstarke Steuerung und Regelung der Plasmabedingungen in höchster Geschwindigkeit.

Da Halbleiterhersteller Bauteilstrukturen vom Nanometer- in den Angström-Bereich verkleinern und neue 3D-Architekturen für höhere Leistung und Packungsdichte ermöglichen, erfordern kritische Plasmaverfahren eine noch ausgefeiltere und präzisere Regelung der HF-Leistungsbereitstellung.

Synertia® bietet eine beispiellose Impedanzanpassung für komplexe Pulsungsprofile und mehrere Pulszustände. Dies ermöglicht die maßgeschneiderte Anpassung der Plasmabedingungen für optimale Waferergebnisse bei gleichzeitig branchenführender Genauigkeit und Reproduzierbarkeit.

Synertia® wird beschrieben als

1 + 1 = 3

Die Synertia® HF-Leistungsbereitstellungsplattform ermöglicht die präzise Optimierung bei jedem Prozessübergang innerhalb von Continuous-Wave-, gepulsten und mehrstufig gepulsten Signalformen, um die Plasmabedingungen für beste Waferergebnisse maßgeschneidert anzupassen. Sie liefert dabei eine branchenführende Genauigkeit und Reproduzierbarkeit, um den Anforderungen der Serienfertigung für die nächsten Nodes und darüber hinaus gerecht zu werden.

Darüber hinaus ermöglicht die Synertia® Plattform eine noch größere Synergie zwischen HF-Generator und HF-Anpassungsnetzwerk durch ultraveschnelle Kommunikation und Koordination, starke Funktionen zur Datenerfassung und integrierten Analyse für praxisrelevante Einblicke – für komplexere Plasmaanwendungen als je zuvor: ein neues Niveau der tiefgreifenden Steuerung.

Die Synertia® Plattform besteht aus HF Generatoren und HF Matching Networks mit einem breiten Frequenz- und Leistungsbereich.